高分辨率影像光柵光譜儀是一種檢測和處理由光與物質(zhì)相互作用引起的原子和分子內(nèi)量子化能級之間躍遷引起的發(fā)射、吸收和散射波長或強度變化的儀器。因此,光譜儀的基本功能是在空間中根據(jù)不同的波長對復(fù)合色光進行分離/擴展,通過配合各種光電儀器附件進行后續(xù)的處理和分析,得到各波長成分和各波長成分強度的原始信息。
高分辨率影像光柵光譜儀是利用光電倍增管等光學(xué)探測器測量不同波長譜線的位置強度的儀器。該結(jié)構(gòu)由入射狹縫、色散系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和一個或多個出口狹縫組成。輻射源的電磁輻射由色散元件從所需的波長或波長區(qū)域中分離出來,強度在選定的波長處測量(或通過掃描某個波長)。
高分辨率影像光柵光譜儀由光學(xué)平臺和探測系統(tǒng)組成。它包括以下主要部分:
1. 入射狹縫:光譜儀成像系統(tǒng)的目標點是在入射光的照射下形成的。
2. 準直元件:由狹縫發(fā)出的光變?yōu)槠叫泄?。準直元件可以是單獨的透鏡、反射器或直接集成在色散元件上,如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
3.色散元件:通常采用光柵將光信號按空間波長分散成多束。
4. 聚焦元件:將色散光束聚焦,使其在焦平面上形成入射狹縫的一系列圖像,其中每個圖像點對應(yīng)一個特定的波長。
5. 探測器陣列:置于焦平面上,用于測量各波長圖像點的光強。該探測器陣列可以是CCD陣列或其他種類的光學(xué)探測器陣列。
高分辨率影像光柵光譜儀作為一種重要的分析方法,在科研、生產(chǎn)和質(zhì)量控制中發(fā)揮著重要作用。無論是通過吸收光譜,還是熒光光譜、拉曼光譜,如何獲得單波長輻射(單色光)都是*的手段。現(xiàn)代單色儀具有光譜范圍廣(UVIR)、高光譜分辨率(高達0.001nm)、自動波長掃描、完整的計算機控制等特點,并易于與其他外圍設(shè)備相結(jié)合,形成高性能的自動測試系統(tǒng)。
當一束復(fù)合光束進入單色儀的入射狹縫時,它被光學(xué)準直儀轉(zhuǎn)換成平行光,然后通過衍射光柵分散成不同的波長(顏色)。用焦反射鏡從光柵的不同角度對出射狹縫進行成像。通過計算機控制可以改變發(fā)射波長。
高分辨率影像光柵光譜儀的選擇主要考慮以下因素:
1. 光柵雕刻。光柵雕刻與光譜分辨率直接相關(guān)。
2、發(fā)光波長,發(fā)光波長是光柵衍射效率點,所以選擇光柵時應(yīng)盡量選擇發(fā)光波長在實驗所需波長附近。如果實驗在可見光范圍內(nèi),則可選擇發(fā)光波長為500nm。
3、使用范圍,光柵使用的下限通常被認為是光柵發(fā)光波長的一半,上限可以被認為是光柵發(fā)光波長的兩倍,實際參考光柵效率曲線;
4. 光柵效率。高分辨率影像光柵光譜儀的效率是單色光衍射到給定階數(shù)和入射單色光的比值。光柵效率越高,信號損耗越小。為了提率,除了改進光柵的制作工藝外,還采用了特殊涂層,提高了反射效率。