品牌 | ZOLIX/卓立漢光 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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組成要素 | 自由電子激光器 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應用領域 | 電子,綜合 | | |
系統(tǒng)主要功能指標:
寬光譜測量范圍:UV-VIS-NIR, 200-900nm;
高系統(tǒng)時間分辨率: <=5ps
壽命衰減測量時間范圍:<=50ps—100us
高系統(tǒng)光譜分辨率: <0.1nm
寬單次成譜范圍: >=200nm
靜態(tài)(穩(wěn)態(tài))光譜采集,
瞬態(tài)時間分辨光譜圖像及熒光壽命曲線
系統(tǒng)集成整體控制及數(shù)據(jù)處理軟件
超快時間分辨光譜系統(tǒng) 是由光譜儀、超快探測器、耦合光路、系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)處理軟件組成。光譜儀對入射光信號進行分光,分光光譜耦合到超快探測器,入射光由透鏡聚焦在陰極上,激發(fā)出的光電子通過陽極加速,入射到偏轉(zhuǎn)場中的電極間,此時電壓加在偏轉(zhuǎn)電極上,光電子被電場偏轉(zhuǎn),激射熒光屏,以光信號的形式成像在熒光屏上。轉(zhuǎn)換后的光信號還可以再通過圖像增強器進行能量放大,并在圖像增強器的熒光屏上成像。最后通過制冷相機采集熒光屏上信號。因為電子的偏轉(zhuǎn)與其承受的偏轉(zhuǎn)電場成正比,因此,通過電極的時間差就可以作為熒光屏上條紋成像的位置差被記錄下來,也就是將入射光的時間軸轉(zhuǎn)換成了熒光屏空間軸。系統(tǒng)控制軟件用于整個系統(tǒng)的參數(shù)設置、功能切換、數(shù)據(jù)采集等,圖像工作站用于采集數(shù)據(jù)處理分析
主要應用方向
超快化學發(fā)光 超快物理發(fā)光 超快放電過程 超快閃爍體發(fā)光 時間分辨熒光光譜,熒光壽命, 半導體材料時間分辨PL譜 鈣鈦礦材料時間分辨PL譜
| 瞬態(tài)吸收譜,時間分辨拉曼光譜測量 光通訊,量子器件的響應測量 自由電子激光,超短激光技術(shù) 各種等離子體發(fā)光 湯姆遜散射,激光雷達 。。。。。。
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光譜儀建議選型參數(shù)列表
光譜儀型號 | Omni-λ2002i | Omni-λ3004i | Omni-λ5004i | Omni-λ7504i |
光譜儀焦距 | 200mm | 320mm | 500mm | 750mm |
相對孔徑 | F/3.5 | F/4.2 | F/6.5 | F/9.7 |
光譜分辨率(1200l/mm) | 0.3nm | 0.1nm | 0.08nm | 0.05nm |
波長準確度 | +/-0.2nm | +/-0.2nm | +/-0.15nm | +/-0.1nm |
倒線色散(1200l/mm) | 3.6nm/mm | 2.3nm/mm | 1.7nm/mm | 1.1nm/mm |
光柵尺寸 | 50*50mm | 68*68mm | 68*68mm | 68*68mm |
光柵臺 | 雙光柵 | 三光柵 | 三光柵 | 三光柵 |
與探測器耦合 | 中繼光路1:1耦合,配合二維焦面精密調(diào)節(jié)一體化底板 |
系統(tǒng)光譜分辨率(1200l/mm) | <=0.3nm | <=0.2nm | <=0.1nm | <0.08nm |
一次攝譜范圍(150 l/mm) | >230nm | >150nm | >90nm | >60nm |
光譜儀入口選項 | 光纖及光纖接口,標準熒光樣品室,鏡頭收集耦合,共聚焦顯微收集耦合等 |
多系統(tǒng)靈活組合超快時間分辨光譜測試系統(tǒng)既可以與飛秒超快光源配合完成獨立的光譜測試,也可以與卓立漢光的其他系統(tǒng)比如 TCSPC, RTS&FLIM顯微熒光壽命成像系統(tǒng),TAM900寬場瞬態(tài)吸收成像系統(tǒng),以及低溫制冷室,飛秒&皮秒激光器等配合完成更為復雜全面的超快測試。
Zolix其他可配合超快測量系統(tǒng)
lRTS2& FLIM 顯微熒光壽命成像系統(tǒng)
光譜掃描范圍:200-900nm(可拓展)
最小時間分辨率:16ps
熒光壽命測量范圍:500ps-1μs@ 皮秒脈沖激光器
激發(fā)源: 375nm- 670nm 皮秒脈沖激光器可選,或使用飛秒光源
科研級正置顯微鏡及電動位移臺
空間分辨率:≤1μm@100X 物鏡@405nm 皮秒脈沖激光器
OmniFluo-FM 熒光壽命成像專用軟件
Omni-TAM900 寬場飛秒瞬態(tài)吸收成像系統(tǒng)
<20ps 的鈣鈦礦薄膜ASE 發(fā)光壽命曲線